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장비 및 시설 기본정보
마스크 얼라이너
장비 개요
| 기관명 | ZEUS |
|---|---|
| 장비번호 | |
| 제작사 | Suss Microtec |
| 모델명 | MA6 |
| 장비사양 | |
| 취득일자 | 2017-09-14 |
| 취득금액 |
보유기관 및 이용정보
| 보유기관명 | 한국과학기술연구원 |
|---|---|
| 보유기관코드 | |
| 활용범위 | |
| 활용상태 | |
| 표준코드 | C501 |
| 표준분류명 | 시험 |
| 시설장비 설명 | 얼라인 키를 포함한 웨이퍼나 기판상에 포토 레지스트를 코팅하고 UV 램프 노광 및 얼라인먼트를 수행하는 마스크 얼라이너임. MO 노광 광학계를 이용하여 텔레센트릭 노광 기법을 이용하여 웨이퍼와 마스크간의 갭이 클때도 균일한 노광 조건을 얻을 수 있는 장비임. Exchangeable Illumiation Filter Plates (IFP)를 이용하여 정밀한 노광 조건 제어가 가능함 |
| 장비이미지코드 | http://www.zeus.go.kr/storage/images//equip/photo/201710/201710109626124.jpg |
| 장비위치주소 | 한국과학기술연구원 연구동(L0) |
| NFEC 등록번호 | NFEC-2017-10-240095 |
| 예약방법 | |
| 카타로그 URL | |
| 메뉴얼 URL | |
| 원문 URL | http://www.zeus.go.kr/resv/equip/read/Z-201712273076 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| 주제어 (키워드) |