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장비 및 시설 기본정보
딥-펜 나노리소그래피
장비 개요
| 기관명 | ZEUS |
|---|---|
| 장비번호 | |
| 제작사 | Afmworkshop |
| 모델명 | TT-AFM |
| 장비사양 | |
| 취득일자 | 2013-08-14 |
| 취득금액 |
보유기관 및 이용정보
| 보유기관명 | 부경대학교 용당캠퍼스 산학협력단 |
|---|---|
| 보유기관코드 | |
| 활용범위 | |
| 활용상태 | |
| 표준코드 | C519 |
| 표준분류명 | |
| 시설장비 설명 | 1. 나노구조물 제작 2. 탐침 기반의 나노리소그래피 공정시스템 3. Organic polymer의 submicron scale 패턴 제작가능 4. 특성 평가서 발급 가능 5. 공동 R&D 활용 가능1) XYZ 각축을 각각의 piezo ceramic을 분리 구동할 수 있도록 설계되어야 함. 2) 3 Axis에 각각 선형보정센서를 장착하여 선형성이 우수하도록 설계되어야 함. 3) 모든 상용화 프로브의 사용 및 캔틸레버의 길이에 상관없이 사용이 가능하도록 laser의 focus조절이 가능하여야 하며 detector의 경우 XY 축 뿐만 아니라 Z축의 움직임이 가능하여 모든 프로브 사용의 확장성을 갖추어야 함. 4) Z축의 구동 확장성을 고려한 설계 - (최대>17um) 5) Z축 Gain 조절을 통한 piezo의 사용영역의 조절이 가능하여 함. (ex. 1 gain: 1.1um 15 gain: 17um) 6) Zoom microscope의 사용을 통한 광학의 배율을 조절 가능하여 함. 7) 3.0 Mega pixel digital CCD카메라 장착으로 광학이미지 캡쳐 및 프로세싱 가능하여 함. 8) 컨트롤러와 컴퓨터의 USB 연결을 통해 향후 컴퓨터 노후에 따른 교체시 가격절감효과 및 편의성 확충 9) Operating software를 Labview base로 하여 User의 원하는데로 확장이 가능하며 모든 software의 source를 open 10) 프로브 holding 방법이 마그넷을 사용하지 않아야 함(향후 확장가능성). 11) 나노스케일을 연구하는 진동에 민감한 장치로서 컨트롤러의 소음이 없어야 함 (Fan을 사용하지 않아야 함) 12) 장비의 오랜시간 유지보수를 위해 모든 parts의 수리 및 교체는 국내에서 빠르게 진행할 수 있어야 함. 13) 열증착원을 이용한 금속물질 진공 증착용 장비 14) 시편자전 : 1 ~ 30 RPM 15) 시편증착균일도 : ± 3% 이내 16) 최대진공도달능력 : 5 x 10E-7 torr 이하 17) 기초진공도달시간 : 2 x 10E-6 torr 이하 @ 60분 18) 장비제어방식 : 인간친화적그래픽구현 PC 터치패널 19) 장비안전 : 진공냉각수압축공기와 시스템 간 안전 연동 방식Dip-pen Nano Lithography 장치는 미세탐침을 이용한 시료의 표면에 패턴을 만들고 3차원으로 관찰하는 기능의 첨단 표면공정분석장비이며, 나노구조물 제작에 사용되어짐. |
| 장비이미지코드 | http://nfec.ntis.go.kr/storage/images/equip/photo/201309/.thumb/20130905172727746.jpg |
| 장비위치주소 | 부산광역시 남구 신선로 365 (용당동) 부경대학교 용당캠퍼스 LED-해양융합기술연구센터 1층 고전압 |
| NFEC 등록번호 | NFEC-2013-09-182651 |
| 예약방법 | |
| 카타로그 URL | |
| 메뉴얼 URL | |
| 원문 URL | http://www.zeus.go.kr/equip/read?equipId=Z-NTIS-0041348 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| 주제어 (키워드) |