펄스 일렉트론 장치 및 소프트웨어
기관명 | ZEUS |
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장비번호 | |
제작사 | Neocera |
모델명 | Neocera PEBS20 pulsed electron source package |
장비사양 | |
취득일자 | 2003-03-07 |
취득금액 |
보유기관명 | 한국전기연구원 |
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보유기관코드 | |
활용범위 | |
활용상태 | |
표준코드 | C500 |
표준분류명 | |
시설장비 설명 | 특징 PED (pulsed electron deposition)은 펄스 (100 ns)를 가지는 high power (1000 A, 15 kev)의 electron beam이 target에 침투하여 target를 빠른 속도 로 evaporation 시키고 plasma를 형성하는 공정이다. PED의 장점은 복잡한 composition의 target의 조성 그대로 박막을 증착시킬 수 있으며, 반도체, 절연체를 포함하는 모든 고상의 재료 또는 금속을 PED를 통해 박막화 할 수 있다. 또한 널리 사용되는 PLD (pulsed laser deposition) system에 비해 가 격이 저렴한 장점을 가지고 있다. |
장비이미지코드 | http://www.zeus.go.kr/storage/images//equip/photo/200712/20071227150917.bmp |
장비위치주소 | 한국전기연구원 제2연구동 |
NFEC 등록번호 | NFEC-2007-12-049868 |
예약방법 | |
카타로그 URL | |
메뉴얼 URL | |
원문 URL | http://www.zeus.go.kr/resv/equip/read/Z-NTIS-0053267 |
첨부파일 |
과학기술표준분류 | |
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ICT 기술분류 | |
주제어 (키워드) |