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장비 및 시설 기본정보
ICP 식각장치(SE01)
장비 개요
| 기관명 | ZEUS |
|---|---|
| 장비번호 | |
| 제작사 | 에스엔텍 |
| 모델명 | ICP |
| 장비사양 | |
| 취득일자 | 2006-08-31 |
| 취득금액 |
보유기관 및 이용정보
| 보유기관명 | 포항공과대학교 |
|---|---|
| 보유기관코드 | |
| 활용범위 | |
| 활용상태 | |
| 표준코드 | C510 |
| 표준분류명 | |
| 시설장비 설명 | 특징 - ICP source and single etch chamber - Feasibility of 8 inch wafer - Fully automatic control system- Process gases : [CF4 SF6 BCl3 Cl2 Ar O2 N2] - Purge gas : N2 * ICP Source & Single Etch Chamber. * High Pumping speed & Characterized pumping channel * Independently controlled Source power and bias power.활용분야 미세 패턴 형성 및 반도체 에칭 공정 * Feasibility of 8 inch Wafer. * Loading/Unloading Chamber for Rapid Processing & Non Contamination * Fully automatic control system for process operations |
| 장비이미지코드 | http://nfec.ntis.go.kr/storage/images/equip/photo/201102/.thumb/20110214151232.gif |
| 장비위치주소 | 경상북도 포항시 남구 청암로 77 (지곡동) 포항공과대학교 나노기술집적센터 |
| NFEC 등록번호 | NFEC-2007-10-007578 |
| 예약방법 | |
| 카타로그 URL | |
| 메뉴얼 URL | |
| 원문 URL | http://www.zeus.go.kr/equip/read?equipId=Z-NTIS-0014841 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| 주제어 (키워드) |