| 보유기관명 |
인하대학교 |
| 보유기관코드 |
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| 활용범위 |
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| 활용상태 |
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| 표준코드 |
C503 |
| 표준분류명 |
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| 시설장비 설명 |
텅스텐 보트를 사용하는 Thermal evaporation 장비. 정량의 시료 pellet를 boat에 장입하고 고진공을 만든 후 boat를 가열하여 열기화 시킨 후 시료에 증착하는 장치. Sample은 4 inch wafer 혹은 그 이하 크기의 조각 시편을 사용. Diffusion pump를 사용하여 5.0E-6까지의 진공 가능. Tungsten boat의 교체만으로 evaporation하는 물질을 쉽게 교체 가능하여 여러가지의 다양한 시료의 증착이 가능하다. 열분해 되지 않는 Ceramic 물질의 증착이 가능하다. Photolithography 작업의 전극 증착시 사용가능.Main chamber 1 wafer sample slot(4 inch or less 조각 시편) Rotary pump Diffusion pump Tungsten boat 발열체. Vacuum sensor(TC gauge Ion gauge).Ti Ni Au Pt 등의 소스를 사용하여 시편위에 금속 박막 coating 시에 사용한다. 또한 주 목적은 반도체의 전극을 형성하는데 사용한다. 금속의 양 또는 코팅시간을 조절하여 박막의 두께를 조절할 수 있다. |
| 장비이미지코드 |
http://nfec.ntis.go.kr/storage/images/equip/photo/201111/.thumb/20111101154951.jpg |
| 장비위치주소 |
인천 남구 용현1,4동 인하대학교 253 인하대학교 5호관 1층 148 |
| NFEC 등록번호 |
NFEC-2009-10-076429 |
| 예약방법 |
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| 카타로그 URL |
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| 메뉴얼 URL |
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| 원문 URL |
http://www.zeus.go.kr/equip/read?equipId=Z-NTIS-0014659 |
| 첨부파일 |
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